En ligne, en direct du 16 au 27 novembre 2020
En réponse à la pandémie COVID-19, CMC et nos professeurs partenaires de SiEPIC de l’UC-B et de Laval offrent en ligne ce cours légendaire de fabrication de photonique au silicium.
Ce cours forme les étudiants à la conception, à la fabrication et au test de circuits intégrés photoniques (CIP) axés sur la technologie de photonique au SI de AMF, disponible par l’intermédiaire de CMC Microsystèmes. Il peut s’agir d’une occasion d’apprentissage autonome ou combinée à votre recherche et / ou développement. Les applications cibles comprennent les communications optiques et les capteurs.
Siemens et Lumerical (maintenant partie de la famille ANSYS) appuient ce cours en fournissant des dispositions d’accès privilégiés à leurs outils pour les participants (voir ci-dessous pour plus d’information).
Remarques importantes :
- Nous offrons quatre options d’inscription. Seuls les universitaires qui sont actuellement inscrits à une université canadienne sont admissibles à l’option 1 ou 2. Les étudiants affiliés à une université à l’extérieur du Canada et toute personne non inscrite à une université sont invités à s’inscrire aux options 3 et 4.
- Pour avoir accès à des renseignements confidentiels sur la technologie fournis pendant le cours, votre organisme doit signer un accord de non-divulgation (AND) avec CMC Microsystèmes. Veuillez communiquer avec Jennifer Draper (Jennifer.Draper@cmc.ca) pour faciliter le processus d’exécution de l’AND avant le 2 novembre 2020.
- Les participants au cours auront accès à d’autres renseignements exclusifs et confidentiels pendant le cours, chaque participant devra signer une entente d’accès à la propriété intellectuelle et un ‘accord de non-divulgation. Les participants doivent soumettre un accord signé à Sarah Neville (Sarah.Neville@cmc.ca) avant le 14 novembre 2020.
Prérequis
Achèvement d’un programme de premier cycle en génie électrique ou en physique appliquée.
Horaire
| Date | Heure | Emplacement |
|---|---|---|
| 8 septembre à novembre 2020 | À votre propre rythme | Conférences vidéo pré-enregistrées, tutoriels et activités |
| Du 16 au 27 novembre 2020 | 12h00 à 15h00 HAE | Téléconférence vidéo via Zoom |
Tarification et inscription
| Option | Option 1 – Universitaires canadiens pour les crédits de cours | Option 2 – Les universitaires canadiens pour la recherche | Option 3 | Option 4 |
|---|---|---|---|---|
| Admissibilité | Les universitaires canadiens s’inscrivent à l’un des cours d’études supérieures :
| Les universitaires canadiens qui ont (ou dont le superviseur a) un abonnement avec CMC | Pour tout ingénieur et chercheur qui n’est pas admissible aux options 1 et 2, des organismes
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| Description | Un cours de troisième cycle de trois crédits sur les principes fondamentaux de la conception, de la fabrication et des tests de dispositifs photoniques au silicium et de circuits, en commençant par l’atelier en ligne | Une formation d’un an sur la conception, la fabrication et les tests des dispositifs photoniques au silicium et des circuits, en commençant par l’atelier en ligne | Une formation d’un an sur la conception, la fabrication et les tests des dispositifs photoniques au silicium et des circuits, en commençant par l’atelier en ligne |
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| Tarif |
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| Notes |
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| Registration | ||||
Programme de formation
- Conférences vidéo préenregistrées, tutoriels et activités en ligne (à votre rythme du 8 septembre à novembre 2020)
- Atelier passif en ligne : du 16 au 27 novembre 2020
- Conception, modélisation et mise en page du masque : décembre 2020 à février 2021
- Accès aux outils logiciels, aux didacticiels et aux forums de discussion en ligne
- Rétroaction fournie pour la conception
- Date limite de la proposition de conception : 28 février 2021
- Présentation de la conception (date limite de mise en page) : 15 mars 2021
- Date d’expédition de l’appareil : septembre 2021
- Test de l’appareil et validation du modèle : septembre à novembre 2021
Description de la technologie
- Silicium sur isolant, film de Si supérieur 220 nm, oxyde enterré 2000 nm
- Lithographie UV profonde de 193 nm sur couches de gravure de Si, permettant des caractéristiques jusqu’à ~150 nm
- Soutient la conception et la fabrication d’une gamme de CIP, notamment :
- cristaux photoniques
- guides d’ondes (cristal photonique ou crête)
- grilles pour le couplage de fibres
- multiplexeurs (diffraction ou guide d’onde articulé)
- résonateurs à anneau
- filtres
- La fabrication se fait à l’AMF au Singapour
Détails du cours
Résumé du programme d’instruction
- Théorie et modélisation des dispositifs passifs de photonique.
- Processus de fabrication et trousses de conception
- Solutions Lumerical MODE, Solutions FDTD, INTERCONNECT
- Disposition et verification
- Outils CAO : Disposition K, Siemens, Tanner et Calibre
- Conception pour l’essai et conception pour la fabrication
Accès aux outils
- De Siemens – Siemens offre aux participants un accès gratuit à Tanner et Calibre :
- Pendant l’atelier
- À la suite de l’atelier, afin de compléter leurs plans de cours.
- De ANSYS Lumerical – Lumerical offre aux participants aux ateliers un accès gratuit à leurs outils CAO (MODE Solutions, FDTD Solutions et INTERCONNECT) :
- Pendant le mois de l’atelier
- Après le premier mois, Lumerical met à la disposition des participants à l’atelier des licences à court terme pour soutenir les objectifs de l’après-atelier. Des conditions peuvent s’appliquer.
Personne-ressource
Si vous avez des commentaires ou des questions concernant le contenu ou l’inscription du cours, veuillez communiquez avec Jessica Zhang à zhang@cmc.ca.
Annulation
Vous devez nous faire parvenir votre annulation de cours par écrit au moins une (1) semaine avant la date de début du cours afin d’être admissible à un remboursement complet des frais d’inscription. Une inscription annulée après la date limite ne sera pas remboursée. Les frais de déplacement ou d’hébergement ne sont pas remboursés par CMC Microsystèmes.