CMC et ses professeurs partenaires de SiEPIC offrent en ligne cet atelier légendaire de fabrication de photonique sur silicium.
Cet atelier enseigne aux étudiants la conception, la fabrication, et la mise à l’essai de circuits photoniques intégrés (CPI) et cible la technologie de photonique sur silicium d’AMF, offerte par l’intermédiaire de CMC Microsystèmes et la technologie NanoSOI d’ANT. Il peut constituer une occasion d’apprentissage autonome ou être combiné à vos activités de recherche ou de développement. Les applications ciblées comprennent les capteurs et les communications optiques.
Siemens, Lumerical (qui fait maintenant partie de la famille Ansys), Luceda, EHVA et Applied Nanotools soutiennent cet atelier en fournissant des dispositions d’accès à leurs outils pour les participants à l’intérieur du Canada (de plus amples renseignements ci-dessous).
Remarques importantes
- Nous offrons quatre options d’inscription. Seuls les membres de la communauté universitaire actuellement inscrits à une université canadienne sont admissibles aux options 1 ou 2.Les étudiants qui ne sont pas inscrits dans une université peuvent utiliser les options 3 ou 4.
- Si vous sélectionnez une option qui comprend la fabrication (options 1, 2, ou 3), vous devrez remplir deux questionnaires sur le contrôle de l’exportation. Communiquez avec Sarah Neville (Neville@cmc.ca) pour obtenir une copie des questionnaires.
- Pour obtenir l’accès aux renseignements confidentiels sur la technologie fournis pendant l’atelier, votre organisation doit signer une entente de confidentialité avec CMC Microsystèmes. Communiquez avec Jennifer Draper (draper@cmc.ca) pour faciliter le processus de ratification de l’entente de confidentialité avant le 3 octobre 2022.
- Les participants auront accès à d’autres renseignements exclusifs et confidentiels dans le cadre de l’atelier. Ainsi, chaque personne doit signer une entente de confidentialité et d’accès à de la propriété . Les participants doivent envoyer une entente signée à Sarah Neville (Neville@cmc.ca) avant le 17 octobre, 2022.
Prérequis
Détenir un diplôme d’un programme de premier cycle en génie électrique ou en physique appliquée.
Horaire
| Date | Heure | Emplacement |
|---|---|---|
| Avant l’atelier | Selon votre propre horaire | Exposés, tutoriels et activités sous la forme de vidéos préenregistrées |
| 24 octobre au 4 novembre 2022 | 12 h à 15 h, heure de l’Est | Vidéoconférence via Zoom |
Tarification et inscription
La date limite de l’inscription est le 14 octobre 2022.
| Option | Option 1 – Universitaires canadiens, crédits de cours universitaire | Option 2 – Universitaires canadiens pour la recherche | Option 3 | Option 4 |
|---|---|---|---|---|
| Admissibilité | Universitaires inscrits à un des cours de cycle supérieur suivants :
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Universitaires canadiens qui disposent d’un abonnement chez CMC (ou dont le superviseur dispose d’un tel abonnement) | Ingénieurs et chercheurs provenant
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| Description | Cours de cycle supérieur de trois crédits sur les fondements de la conception, de la fabrication et de la mise à l’essai des circuits et des dispositifs photoniques sur silicium, commençant avec l’atelier en ligne | Formation d’un an sur la conception, la fabrication et la mise à l’essai des circuits et des dispositifs photoniques sur silicium, commençant par l’atelier en ligne | Formation d’un an sur la conception, la fabrication et la mise à l’essai des circuits et des dispositifs photoniques sur silicium, commençant avec l’atelier en ligne | Atelier et contenu enregistré. Fabrication non incluse. |
| Tarif |
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| Remarques |
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| Inscription | Fermé. | |||
Calendrier de formation
- Exposés, tutoriels et activités sous la forme de vidéos préenregistrées (à rythme libre, commence dès que l’inscription est confirmée)
- Atelier passif en ligne : du 24 octobre au 4 novembre 2022
- Accès aux outils logiciels, aux tutoriels et aux forums de discussion en ligne
- Rétroaction fournie sur la conception
- Date limite d’inscription à la fabrication d’ANT : 21 novembre 2022
- Date limite de soumission de la conception (échéance pour l’agencement) : 5 décembre 2022
- Date limite de proposition de conception d’AMF : 13 février 2023
- Soumission de la conception (date limite de mise en page) : 6 mars 2023
- Date d’expédition du dispositif : septembre 2023
Description des technologies
Technologie d’AMF
- Silicium sur isolant, couche de Si supérieure de 220 nm, oxyde enfoui (BOX) de 2 000 nm
- Lithographie par UV profonde de 193 nm sur couches de gravure sur silicium, ce qui permet des fonctionnalités jusqu’à une profondeur d’environ 150 nm
- Prend en charge la conception et la fabrication d’un éventail de CPI comprenant ce qui suit :
cristaux photoniques- guides d’ondes (cristaux photoniques ou moulures)
- réseaux pour couplage des fibres
- multiplexeurs (diffraction ou guide d’ondes en réseau)
- résonateurs en anneau
- filtres
- La fabrication est effectuée par AMF à Singapour
Technologie d’ANT
- Silicium sur isolant, couche de Si supérieure de 220 nm, oxyde enfoui (BOX) de 2 000 nm
- Lithographie far faisceau d’électrons, permettant des caractéristiques jusqu’à 60 nm
- Prend en charge :
- guides d’onde (bande)
- réseaux pour couplage de fibres
- chauffages métalliques pour le déphasage thermo-optique
- tranchée profonde et nano-coniques pour le couplage en périphérie
- multiplexeurs, filtres, résonateurs à anneau et à disque
- La fabrication est effectuée par Applied Nanotools au Canada
- D’autres capacités telles que les coupleurs en périphérie, les ouvertures de fenêtre en oxyde et les tranchées d’isolation thermique sont disponibles en dehors de l’atelier via Applied Nanotools.
Détails de l’atelier
Sommaire du programme d’instruction
- Théorie et modélisation de dispositifs photoniques passifs.
- Procédés de fabrication et trousses de conception.
- Lumerical MODE Solutions, FDTD Solutions, INTERCONNECT
- Agencement et vérification
- Outils de CAO: K-layout, Siemens Tanner et Calibre
- Conception pour la mise à l’essai et conception pour la fabrication
Accès aux outils
- Siemens– Siemens offre aux participants issus d’établissements universitaires un accès gratuit aux licences de Tanner et de Calibre pendant et après l’atelier, afin qu’ils puissent réaliser leurs conceptions dans le cadre de l’atelier. Les accès aux licences pour les participants du secteur industriel seront évalués par Siemens (Mentor) au cas par cas.
- ANSYS Lumerical– L’Université de la C-B offre aux participants se trouvant au Canada un accès gratuit à la licence d’enseignement Lumerical pour les technologies MODE Solutions, FDTD Solutions, INTERCONNECT et DEVICE à l’atelier et après celui-ci, afin qu’ils puissent réaliser leurs conceptions dans le cadre de l’atelier. Les participants hors Canada doivent disposer de leur propre licence pour les outils d’Ansys Lumerical.
- IPKISS et IPKISS AWG Designer de Luceda Photonics– Luceda offre aux participants à l’atelier un accès gratuit aux licences d’évaluation de Luceda pour une durée de 30 jours dès le début de l’atelier.
Coordonnées
Si vous avez des commentaires ou des questions au sujet du contenu de l’atelier ou de l’inscription à celui-ci, veuillez communiquer avec Jessica Zhang.
Annulations
Vous devez nous faire parvenir votre annulation de cours par écrit au moins une (1) semaine avant la date de début du cours afin d’être admissible à un remboursement complet des frais d’inscription. Une inscription annulée après la date limite ne sera pas remboursée. CMC Microsystèmes ne s’engage pas à rembourser les frais de déplacement ou d’hébergement.
Annexe A
Les étudiants inscrits à des programmes d’études supérieures dans d’autres universités canadiennes peuvent s’inscrire à l’atelier de l’Université de la C-B en tant qu’étudiants invités. Une demande d’admission à l’école supérieure de l’Université de la C-B est requise. Des conditions peuvent s’appliquer. Les détails sont disponibles au : https://www.grad.ubc.ca/prospective-students/application-admission/visitors-canadian-universities.